专利号： 01255955 专利人：张兴全
永磁式平面磁控溅射靶，包括永磁体，在永磁体的上端面装有导磁极帽，导磁极帽的横截面形状可以为矩形、梯形、楔形、三角形、锥形、半圆形或其它形状，在永磁体的下端面装有导磁调整垫，导磁调整垫固定在极靴上，极靴通过升降调节螺杆支撑在磁控靶体上，外圈永磁体的外侧面上封装有短路磁极。本实用新型提供了一种能使空间磁场均匀，，提高镀膜质量，靶材利用率可达６０％，磁性调整范围大，能消除杂散磁场，在非使用区不产生电弧的永磁式平面磁控溅射靶。联系电话：13823228656
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